聚焦離子束掃描電鏡（FocusedIonBeamScanningElectronMicroscope，簡稱FIB-SEM）是一種先進的電子顯微鏡系統，結合了離子束刻蝕和掃描電子顯微鏡成像技術。它不僅可以進行高分辨率的表面成像，還能在同一平臺上進行樣品切割、精確加工和三維重建，廣泛應用于材料科學、生命科學和納米技術等領域。
結構和工作原理
離子束系統：
FIB-SEM的核心部分是離子束系統，通常使用高能量的離子束（通常為鎵離子），用于刻蝕樣品表面或進行精細加工。離子束的聚焦能力決定了加工的精度和分辨率。
掃描電子顯微鏡系統：
離子束和掃描電子顯微鏡（SEM）系統集成在同一平臺上。SEM負責樣品的高分辨率成像，可以獲取表面形貌和微觀結構的詳細信息。
樣品臺：
樣品臺是FIB-SEM的重要部件，支持樣品的旋轉和移動，以便進行不同角度的成像和加工。樣品臺的穩定性和精確控制對于獲取高質量的數據至關重要。
控制系統：
FIB-SEM系統還包括先進的計算機控制系統，用于實時監控和調節離子束和電子束的操作參數，以及樣品臺的運動。
應用領域
材料科學：
FIB-SEM可用于材料的微觀結構分析和表面形貌觀察。例如，觀察材料的斷口形貌、晶體缺陷分析、界面分析等。
納米技術：
在納米器件制造中，FIB-SEM可以用來進行精確的加工和調控，如制備納米器件、修復電路故障等。
生命科學：
用于生物樣品的切割和成像，如細胞的三維結構重建、組織樣品的微結構分析等。
電子器件分析：
在電子器件制造和分析中，FIB-SEM可以用來研究器件的工作原理和故障分析，如芯片級別的分析和修改。
地質與環境科學：
用于巖石和礦物樣品的微觀結構分析，如巖石的成分分析、微觀顆粒的分布和形貌分析等。
總結
聚焦離子束掃描電鏡系統通過結合離子束刻蝕和掃描電子顯微鏡成像技術，提供了一種強大的分析工具，適用于多種材料和生命科學領域的高分辨率表面成像、樣品加工和三維重建。它的廣泛應用使其成為現代科學研究和工業生產中需要的儀器之一。
